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光学和光学仪器高压、低压、浸没试验方法

文章出处: 责任编辑:真空干燥箱厂家 发表时间:2015-03-23
1、试验目的:研究试样的光学、热学、力学、化学和电学等特性受高压、低压、浸没影响的变化程度
2、试验条件
光学仪器的耐压试验采用下述三种方法。
2.1条件试验方法80:内高压条件试验方法80的环境条件为清洁的空气或氮气,相对湿度小于30%
2.2条件试脸方法81:内低压
2.3条件试验方法82;浸没
条件试验方法82用于在使用期间可能遭到浸没的仪器。反没试验应使用软水并在敞开的水箱里或
水压室进行,浸没的深度根据试样的最高部位决定,水温应在10~25℃之间,暴露期间试样的温度
不得低水温,但也不可超过水温。
3、试验程序
3.1条件试验方法82:试样的预处理和初始检测
暴露前,试样应在温度为40c,相对湿度小于40%的条件下放置4h.
3.2条件试验方法80和81:压力变化曲线
如有关标准要求在试验中记录压力随时间变化的曲线,则应采用记录仪记录,如没有适当的记录
仪,压力变化曲线应根据不少于10个相等间隔的测量值绘制。
3.3 二作状态
如有关标准要求条件试验方法80和81的工作状态为2则应注意:
a.试样内或试样上的热变化不得超过士10C,否则将会降低所要求的测量准确度;
b.机械运动可以从外部起动;例如:用手动代替工作状态
c.如果因机械运动引起试样内部体积的变化而产生记录的突变,则应在记录中标明。
 
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